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- December 22, 2025
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Sorprendente aplicación biomédica encontrada para las máquinas de impresión EUV de fabricación de chips de ASML: pueden producir en masa nanoporos para detección molecular
IMEC ha demostrado con éxito la fabricación completa de nanoporos a escalera de sello utilizando las máquinas de ultravioleta extremo (EUV) de última coexistentes de ASML. Descrito Según el principal…
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- December 18, 2025
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Según se informa, China tiene un prototipo de máquina EUV construida por ex empleados de ASML
un crónica de Reuters afirma que científicos en China han creado un prototipo de máquina que eventualmente podría estilarse para producir chips semiconductores capaces de proveer inteligencia industrial. Las fuentes…
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- December 17, 2025
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La nueva plantilla de grabado de nanoimpresión de 1,4 nm podría resumir la menester de pasos EUV en nodos de proceso avanzados; las preguntas persisten ya que ninguna fundición se ha comprometido todavía con la grabado de nanoimpresión para la fabricación de gran barriguita
La japonesa Dai Nippon Printing (DNP) afirma activo desarrollado una plantilla de grabado de nanoimpresión capaz de Deducción de patrones con un tamaño de característica de 1,4 nm.con planes de…
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- November 11, 2025
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Científicos chinos descubren un método para disminuir los defectos en un 99% con equipos de fabricación de chips DUV, pero destruye la fidelidad del patrón EUV: analizan la agrupación de fotorresistentes con crio-ET a 105°C
Someter la densidad de defectos y aumentar el rendimiento son los desafíos esencia para los fabricantes y diseñadores de chips que utilizan cientos de métodos para ambas tareas. Esto se…
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- October 2, 2025
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TSMC reduce el consumo mayor de energía de las herramientas EUV en un 44%: la compañía ahorrará 190 millones de kilovatios-horarios de electricidad para 2030
Como la fundición más vasto del mundo, TSMC ejecuta docenas de fabricantes y consume una enorme cantidad de electricidad, aproximadamente del 9% del consumo total de energía de Taiwán. El…
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- September 28, 2025
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Rusia describe la hoja de ruta de herramientas de chipas EUV Litho a través de 2037 – Patricy Eyes reemplazando a DUV con EUV
El Instituto de Física de Microestructura de la Agrupación de Ciencias de Rusia (a través de Dmitrii kuznetsov) ha establecido una hoja de ruta a dilatado plazo para herramientas de…
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- May 28, 2025
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TSMC reitera que no necesita un EUV suspensión en NA para la tecnología de proceso de clase de 1,4 nm
TSMC reiteró su postura tan esperada sobre las herramientas de grabado EUV de entrada Reproducción de High-NA en su Simposio de Tecnología Europea en Amsterdam. La compañía no requiere estos…
